本次会议秋季会议旨在加强国内薄膜物理学界的学术交流，提高学术水平，推动物理学科的全面发展和提升人才培养质量。

会议于12月15日早上8:30分顺利召开，大会邀请了清华大学材料学院潘峰教授、中科院苏州纳米所徐科教授、中科院兰州化学物理研究所张俊彦教授等人做了大会邀请报告，报告重点介绍了氮化镓薄膜的生长机制、生长方法及其应用以及碳基薄膜材料的超润滑应用。会议还邀请了各科研院所及高校的专家学者进行了精彩的专题报告，如中科院宁波材料所汪爱英教授详细介绍了PVD功能防护金属薄膜的抗氧化性能研究；中国计量科学研究院的任玲玲研究员做了薄膜厚度及其特性标准物质的研制及应用；哈尔滨工业大学的田修波教授做了高功率脉冲磁控溅射的新发展与应用，详细介绍了磁控溅射的镀膜工艺、控制方法以及膜层结构制备等。

参加本次论坛让我们深入的了解了我国在薄膜领域的发展现状，为我们以后开展的加速器靶薄膜制备相关方面的应用提供了十分宝贵的参考。另外，参加本次论坛使我们能够面对面的与相关学者专家进行交流学习，极大的拓宽了个人的学术视野，加深了对相关知识的理解，受益匪浅。